制藥加工設(shè)備的清洗對(duì)防止產(chǎn)品被污染及保護(hù)設(shè)備至關(guān)重要。防止加工設(shè)備上引起的交叉污染一般是通過學(xué)習(xí)并理解設(shè)備預(yù)先生產(chǎn)出來的產(chǎn)品，然后適當(dāng)?shù)剡x擇恰當(dāng)?shù)那逑磩?，在?guī)定的參數(shù)指導(dǎo)下，去除產(chǎn)品帶來的污染。

新生產(chǎn)的不銹鋼設(shè)備表面可能會(huì)有多種不知名的污染物?？赡馨?潤(rùn)滑劑、空氣研磨油、黏合劑、拋光復(fù)合物及其它污物。在設(shè)備開始使用或鈍化之前確保這些污物被清除，這是非常重要的，下面成都凈化工程公司就談下藥廠潔凈室施工之潔凈室新設(shè)備怎么清洗。

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因?yàn)榇笞匀患氨砻嫖廴疚锬軌蛞驗(yàn)橐恍┩庠谇闆r及設(shè)備以往的使用情況而發(fā)生改變，這里建議一般的清洗步驟最好連同充分的監(jiān)視測(cè)試來確保清洗性能。這里建議的方法不是針對(duì)所有可能的污染物。這個(gè)方法可能也要跟著設(shè)備制造商的要求來修改，基于系統(tǒng)污染物的兼容性以及之前的一些經(jīng)驗(yàn)或歷史數(shù)據(jù)。

建議清潔步驟如下。

①不銹鋼表面要被用45～60℃的溫水沖洗干凈，以沖洗掉表面的污物。

②去除設(shè)備拋光區(qū)域的一些過多的拋光粉末及微粒，使用軟毛的刷子是必要的。完成后，沿著拋光砂線的方向刷，并經(jīng)過充分沖洗以沖掉細(xì)小的顆粒物。

③推薦的清洗溶液是由5％的CIP100堿性清洗劑添加5％的CIP添加劑。設(shè)備可以通過CIP系統(tǒng)配制這個(gè)溶液進(jìn)行清洗，需要在70～80℃的溫度下循環(huán)沖洗3～4h。這種堿性清洗步驟可以用來清除油漬、潤(rùn)滑油和細(xì)小的污物。

④設(shè)備用45～60℃的去離子水來進(jìn)行完整的沖洗。

⑤分析測(cè)試，可以使用表面擦拭方法，然后確保有機(jī)污物和小的顆粒物都被清除干凈?？焖儆行У姆椒ㄊ撬袛鄿y(cè)試。在這個(gè)測(cè)試中，用肉眼觀察，在潔凈表面上的水沒有回流，不形成水珠，并且離開未被浸濕的區(qū)域。白手套測(cè)試可能也是這個(gè)階段另一個(gè)快速測(cè)試整體表面清潔度的一個(gè)方法。

以上這些預(yù)清洗及檢測(cè)的指導(dǎo)是用來確保所有的表面被清洗干凈以及有機(jī)污物的小顆粒物被去除干凈。如果發(fā)現(xiàn)沒有充分清洗干凈，必須重復(fù)以上步驟。

上述步驟對(duì)于去除鐵氧化物并沒有很好的效果。對(duì)于其它的一些金屬污染物可能也沒有很好的效果。在堿性清洗劑預(yù)清洗完后，除銹鈍化過程也要適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行處理。